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c.製造工具。

雖然您會發現使用光刻模擬在生產環境中發布的材料較少[40-42]，但其原因是在生產中人為地限制了發布，而不是使用光刻模型。 在生產環境中，模擬使用三個主要目標：減少必須通過生產線進行的測試或實驗晶圓的數量; 找出FAB中的故障問題; 通過提供真實的資訊，它有助於在決策中支援工程判斷和直覺。

在生產線上執行測試晶圓消耗太多，不是因為測試成本，而是因為不執行產品可能的成本[43]。 如果能減少生產線上不執行產品的模擬時間，哪怕是一點點，投資回報也會很高。 模擬還有助於使新流程上線，並在所需的時間範圍內建立新流程的基線能力。

雖然不是完整的列表，但生產環境中最常見的光刻模擬示例包括：

薄膜覆蓋優化。

處理視窗。

NA優化。

OPC 驗證。

CD、CPK 分析的益處有限。

根本原因分析疑難解答。

這些示例用法將在後面的部分中更詳細地介紹。

房東，絕對是自己翻的，希望能用到。

c.製造工具。

儘管人們會在光刻模擬之上找到相對較少的已發表材料。

製造業環境[40-42]，究其原因在於製造業的出版人有限。

不使用有限光刻模型。 在製造環境中使用模擬。

有三個主要目標：減少測試次數，或者必須通過實驗晶圓執行才能完成。

生產線，對障礙的優秀修復問題，並通過提供事實來幫助決策。

支援工程裁判和直覺。 競速測試晶圓以完成一條生產線是昂貴的。

如此多的成本測試是合適的，但由於機會成本不會與產品競爭[43]。如果模擬。

為了減少生產線的時間，哪怕是一點點的產品競爭，這又回到了投資罐子上。

為新程式建立基線能力。 雖然不是完整的目錄，但最常見的。

在製造環境中模擬的光刻用例包括：

短片堆疊優化。

程式 Windows**。

NA優化。

OPC 驗證。

雷射光碟產量，CPK分析。

故障修復 根本原因分析。

這些用例將在後面的章節中更詳細地描述。